一种太阳能电池发射结制备方法
基本信息
申请号 | CN202110281240.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113066896A | 公开(公告)日 | 2021-07-02 |
申请公布号 | CN113066896A | 申请公布日 | 2021-07-02 |
分类号 | H01L31/18;H01L31/0352 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 闫路;上官泉元 | 申请(专利权)人 | 常州比太科技有限公司 |
代理机构 | 北京集智东方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 吴倩 |
地址 | 213164 江苏省常州市武进高新技术产业开发区凤翔路7号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种太阳能电池发射结制备方法,包括如下步骤:S1.预先采用下镀膜的真空镀膜方式在硅片表面制备掺杂非晶硅薄膜,即硅片平躺放置在载板上,硅片边缘被载板托举覆盖,掺杂非晶硅薄膜沉积在硅片的下表面;S2.进入高温炉中进行扩散;S3.扩散完成后降低炉温,在高温炉里通入氧气对掺杂非晶硅薄膜进行氧化处理,便于下一道清洗;S4.硅片出炉冷却、清洗,完成发射结制备。本发明通过下镀膜的真空镀膜方式,保护硅片边缘防止绕镀,简化后续清洗工艺步骤;降低了扩散温度,减小了对硅基体造成的热损伤,有利于电池效率的提升,降低了制造能耗,有利于成本控制;总工艺时间缩减至现有技术的1/2,生产效率显著提升。 |
