基于高折射率差超结构的光学传感器及制作方法

基本信息

申请号 CN202210472763.0 申请日 -
公开(公告)号 CN114689543A 公开(公告)日 2022-07-01
申请公布号 CN114689543A 申请公布日 2022-07-01
分类号 G01N21/41(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I 分类 测量;测试;
发明人 房文敬;毕丽平;范鑫烨;牛慧娟;白成林;张霞;杨立山 申请(专利权)人 聊城大学
代理机构 深圳叁众知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 -
地址 252000山东省聊城市东昌府区湖南路1号
法律状态 -

摘要

摘要 一种基于高折射率差超结构的光学传感器及制作方法,涉及光学传感技术领域,具体属于一种基于高折射率差超结构的光学传感器及制作方法。包括介质基底和超结构,超结构为全介质材料构成的光栅单元,所述的光栅单元在介质基底上等间距分布,并在X方向周期性排列。本发明采用高折射率的全介质材料,能够避免金属材料引起的欧姆损耗,在实现高灵敏度的同时,还能将检测波长范围扩展至近红外波段。