一种金属有机物化学气相沉积设备的中央支柱
基本信息
申请号 | CN201020546826.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN202139293U | 公开(公告)日 | 2012-02-08 |
申请公布号 | CN202139293U | 申请公布日 | 2012-02-08 |
分类号 | C23C14/44(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 李刚;李可;王小举 | 申请(专利权)人 | 上海蓝宝光电材料有限公司 |
代理机构 | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 | 代理人 | 上海蓝宝光电材料有限公司 |
地址 | 201616 上海市松江区文俊路2号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开一种金属有机物化学气相沉积设备(MOCVD)的中央支柱,包括:中央支柱体(1)、设置在中央支柱体(1)内的导流螺杆(2)、密封中央支柱体(1)和导流螺杆(2)的上盖(7)、固定在上盖(7)上的进水管(5)和出水管(6)、以及与中央支柱体(1)上部固定连接的反应腔顶盖(4);导流螺杆(2)与中央支柱体(1)之间设有与进水管(5)连通的冷却流道,导流螺杆(2)的中间设有与出水管(6)连通的中间水槽,在导流螺杆(2)的下端设有连通冷却流道和中间水槽的出水槽。该中央支柱体组装完成后起到支撑腔体顶盖(4)的作用,解决了MOCVD工作过程中腔体顶盖(4)由于高温产生的形变,不仅延长了腔体顶盖(4)的寿命问题,也保证了MOCVD工作过程由于形变对气流空间造成的不利影响,保证了生长环境的一致性。 |
