一种金属有机物化学气相沉积设备的中央支柱

基本信息

申请号 CN201020546826.5 申请日 -
公开(公告)号 CN202139293U 公开(公告)日 2012-02-08
申请公布号 CN202139293U 申请公布日 2012-02-08
分类号 C23C14/44(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 李刚;李可;王小举 申请(专利权)人 上海蓝宝光电材料有限公司
代理机构 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人 上海蓝宝光电材料有限公司
地址 201616 上海市松江区文俊路2号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开一种金属有机物化学气相沉积设备(MOCVD)的中央支柱,包括:中央支柱体(1)、设置在中央支柱体(1)内的导流螺杆(2)、密封中央支柱体(1)和导流螺杆(2)的上盖(7)、固定在上盖(7)上的进水管(5)和出水管(6)、以及与中央支柱体(1)上部固定连接的反应腔顶盖(4);导流螺杆(2)与中央支柱体(1)之间设有与进水管(5)连通的冷却流道,导流螺杆(2)的中间设有与出水管(6)连通的中间水槽,在导流螺杆(2)的下端设有连通冷却流道和中间水槽的出水槽。该中央支柱体组装完成后起到支撑腔体顶盖(4)的作用,解决了MOCVD工作过程中腔体顶盖(4)由于高温产生的形变,不仅延长了腔体顶盖(4)的寿命问题,也保证了MOCVD工作过程由于形变对气流空间造成的不利影响,保证了生长环境的一致性。