一种适用半导体领域的光刻胶剥离液及制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202011496711.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112711176A | 公开（公告）日 | 2021-04-27 |
| 申请公布号 | CN112711176A | 申请公布日 | 2021-04-27 |
| 分类号 | G03F7/42 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 尹淞;冯继恒;鲁晨泓;张建;刘江华 | 申请（专利权）人 | 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 314200 浙江省嘉兴市平湖市钟埭街道新明路901号3号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种适用半导体领域的光刻胶剥离液及制备方法，包括季铵化合物、有机醇胺、极性有机溶剂以及去离子水；以重量百分比计，包括季铵化合物0.5‑20％、有机醇胺1‑40％、极性有机溶剂20‑95％、去离子水1‑50％。本发明稳定性好、去胶效果好，不会对砷化镓等基底产生腐蚀。 |
