一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202011027026.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112394622A | 公开（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申请公布号 | CN112394622A | 申请公布日 | 2021-02-23 |
| 分类号 | G03F7/32(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 刘江华;张建;贾亚军;冯纪恒 | 申请（专利权）人 | 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 314200浙江省嘉兴市平湖市钟埭街道新明路901号3号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种低蚀刻率显影液组合物及其制备方法，包括烷基萘磺酸盐、非离子表面活性剂、碱金属盐、高纯水、烷基萘磺酸盐0.2‑10％、非离子表面活性剂0.01‑10％、碱金属盐0.1‑10％以及高纯水70‑96.9％。本发明的光刻胶显影液具有较低的基底材料蚀刻率，显影过程不会造成基底腐蚀，同时该显影液还具有分散稳定性高、泡沫少、操作窗口大、显影图案清晰、后光刻胶无残留无基底腐蚀等特点。 |
