一种具有较高上盘提升平稳度的晶片研磨机
基本信息
| 申请号 | CN201020262221.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN201728582U | 公开（公告）日 | 2011-02-02 |
| 申请公布号 | CN201728582U | 申请公布日 | 2011-02-02 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 张继昌;段有志 | 申请（专利权）人 | 大庆佳昌科技有限公司 |
| 代理机构 | 大庆知文知识产权代理有限公司 | 代理人 | 大庆佳昌科技有限公司;大庆佳昌晶能信息材料有限公司 |
| 地址 | 163316 黑龙江省大庆市高新技术开发区产业三区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种具有较高上盘提升平稳度的晶片研磨机。主要解决现有技术中的晶片研磨机在定位托盘带动提升架上行时会发生轻微晃动，易导致部分晶片被压裂的技术问题。其特征在于：在所述汽缸提升杆(4)底端连接的定位托盘(6)的上端面与提升架(5)顶端的下端面之间有一块支撑板(8)，所述支撑板(8)主体为一块平板，在该平板的一侧开有一个带有弧形面(10)的滑动凹槽(9)，所述汽缸提升杆(4)位于所述滑动凹槽(9)内。该种晶片研磨机能够在定位托盘带动提升架上行时保证提升的平稳度，避免了晶片被压裂的生产损失的发生，并且具有结构简单，安装、维护方便的特点。 |
