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一种多层结构的阻隔真空膜

基本信息

申请号 CN201320858526.4 申请日 -
公开（公告）号 CN203792835U 公开（公告）日 2014-08-27
申请公布号 CN203792835U 申请公布日 2014-08-27
分类号 B32B27/36(2006.01)I 分类 层状产品;
发明人 贺艳;张受业;陈强;李海燕;赵萌;吕旭东;朱惠钦;陈伟岸;陈立国 申请（专利权）人 北京北印东源新材料科技有限公司
代理机构 北京庆峰财智知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 北京北印东源新材料科技有限公司
地址 101407 北京市怀柔区雁栖经济开发区雁栖东二路8号1幢1号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种多层结构的阻隔真空膜，包括基材层，还包括设于基材层一侧或两侧的至少一层阻隔层，阻隔层为由无机物构成的阻隔层。本实用新型通过采用磁增强化学气相沉积技术在基材层的表面沉积一层由无机物构成的阻隔层时，形成的阻隔真空膜的阻隔层上层有一层约11nm的粗糙层，其中空气成分体积比达到30%，极大地增强了基材的阻氧性以上的阻隔层；当沉积两层以上的阻隔层时，可以有效地延长水蒸气在材料表面或层间透过的时间，降低水蒸气透过率，同时提高材料的阻氧性，使内包装物货架寿命延长；并通过连续沉积层数的不同来调节材料所需的阻隔性能，具有更好的效果。