PECVD镀膜装置的电极结构
基本信息
| 申请号 | CN201310722398.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103741120B | 公开（公告）日 | 2016-01-20 |
| 申请公布号 | CN103741120B | 申请公布日 | 2016-01-20 |
| 分类号 | C23C16/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 吕旭东;陈立国;李海燕;张受业;陈伟岸;贺艳;赵萌;朱惠钦 | 申请（专利权）人 | 北京北印东源新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京庆峰财智知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 北京北印东源新材料科技有限公司 |
| 地址 | 101407 北京市怀柔区雁栖经济开发区雁栖东二路8号1幢1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种PECVD镀膜装置的电极结构。该PECVD镀膜装置的电极结构包括：第一电极对，第一电极对包括相对设置的第一电极辊和第二电极辊，第一电极辊内设置有第一内磁路，第二电极辊内设置有第二内磁路；第二电极对，第二电极对的两个电极的中心连线与第一电极辊和第二电极辊的中心连线相互垂直并对称布置。本发明所提供的PECVD镀膜装置的电极结构，能够降低放电电压，较大程度避免误放电，降低能源消耗并提升膜面质量。 |
