压力热处理驱动Nd-Cu晶界扩散改善钕铁硼磁性的方法

基本信息

申请号 CN201910808100.X 申请日 -
公开(公告)号 CN110571038A 公开(公告)日 2019-12-13
申请公布号 CN110571038A 申请公布日 2019-12-13
分类号 H01F41/02(2006.01); H01F1/055(2006.01) 分类 基本电气元件;
发明人 柴晓峰; 毛建星; 邹买金 申请(专利权)人 杭州史宾纳科技有限公司
代理机构 杭州九洲专利事务所有限公司 代理人 杭州史宾纳科技有限公司
地址 311307 浙江省杭州市临安市青山湖科技城大园路横畈街979号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种压力热处理驱动Nd‑Cu晶界扩散改善钕铁硼磁性的方法,具体步骤如下:采用真空快淬工艺制备Nd‑Cu粉料,分别取纯度99.5%金属钕和纯度99.5%铜金属按重量比例3:7配比,配比好的材料放入真空熔炼炉内熔炼注锭,再将合金锭放入真空快淬炉中制成Nd‑Cu粉末,将Nd‑Cu粉料和热压钕铁硼MQP‑M型粉料按0.88:100的重量比例配比,将配好的粉料倒入到真空混料机中均匀混合;取混合粉料放到压机上压制并保压。本发明的有益效果为:通过压力热处理驱动Nd‑Cu晶界扩散与传统热压钕铁硼压制的磁环两者之间的对比,传统热压钕铁硼压制内禀矫顽力为15kOe,按本发明的混合材料配比参数,采用我们压力热处理驱动Nd‑Cu晶界扩散的方法其Br提高到14.6kG,Hcj提高到20KOe,(BH)m提高到51.1MGOe,退磁曲线方形度Hk/Hci>90%。