一种超黑高性能Ti-DLC涂层的制备工艺
基本信息

| 申请号 | CN202110298324.8 | 申请日 | - |
| 公开(公告)号 | CN113061845A | 公开(公告)日 | 2021-07-02 |
| 申请公布号 | CN113061845A | 申请公布日 | 2021-07-02 |
| 分类号 | C23C14/06;C23C14/34;C23C14/02;C23C14/14 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张心凤;夏正卫;李灿民;范洪跃 | 申请(专利权)人 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 代理机构 | 合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人 | 胡发丁 |
| 地址 | 230088 安徽省合肥市高新区永和路99号一天电气F厂房101-A区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要

| 摘要 | 本发明涉及一种超黑高性能Ti‑DLC涂层的制备工艺,包括将工件置于真空腔室内,对真空腔室进行抽气处理,抽气处理后对真空腔室和/或工件进行除杂处理,除杂处理后向真空腔室内充入Ar,采用中频电源孪生Ti靶在工件的表面制备打底层,打底层制备好后,向真空腔室内增加充入C2H2,在打底层上制备过渡层,制备过渡层的过程中按照需求调控过渡层制备参数进行变化,调控变化的过渡层制备参数包括Ar充入量、C2H2充入量、工件偏压、Ti靶材电压中的一者或几者;过渡层制备好后,保持各过渡层制备参数稳定继续镀膜,从而在过渡层上制备出稳定色层。本发明提供的上述方案,其制备的镀膜性能优异,DLC的L值低于30,可有效扩展应用范围。 |





