传输通道装置及真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202021264826.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213357729U | 公开（公告）日 | 2021-06-04 |
| 申请公布号 | CN213357729U | 申请公布日 | 2021-06-04 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C16/44 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张心凤 | 申请（专利权）人 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 代理机构 | 合肥九道和专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 时理想 |
| 地址 | 230000 安徽省合肥市高新区永和路99号F栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及真空镀膜设备领域，具体涉及一种传输通道装置，包括通道本体，通道本体内形成供等离子体通过的A通道，A通道的两端分别构成A入口和A出口，通道本体的内壁上设置有用于吸附等离子体中杂质组分的吸附单元。本实用新型提供的传输通道装置，其在通道本体内形成A通道，等离子体通过A通道一端的A入口进入，并由A通道另一端的A出口输出，通过在通道本体的内壁上设置吸附单元，实现对等离子体中杂质组分的吸附，从而提高效果。另，本实用新型还提供了一种应用上述传输通道装置的镀膜设备，其能够通过提高传输通道装置过滤效果，实现镀膜质量的提高。 |
