一种镁基或铝基滤波器腔体镀层及其制备方法

基本信息

申请号 CN202010864775.9 申请日 -
公开(公告)号 CN111962035A 公开(公告)日 2020-11-20
申请公布号 CN111962035A 申请公布日 2020-11-20
分类号 C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 马洋;刘建利 申请(专利权)人 西安匠心云涂科技有限公司
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 代理人 李红霖
地址 710054 陕西省西安市雁塔区雁翔路99号博源科技广场c座414室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种镁基或铝基滤波器腔体镀层及其制备方法,属于磁控溅射镀膜领域。本发明的制备方法,采用磁控溅射来镀层,首先镀200~300nm的Cr层作为打底层,代替采用传统电镀或化学镀的200~700nm的Ni打底层;之后溅射Cu层,Cu层沉积完成后,采用磁控共溅射技术沉积1‑2μm的Cr‑Al‑Ag共溅射层,在保证电学性能的同时,进一步减少了Ag的使用量,降低成本;共溅射层中Cr的加入提升了膜层间的结合力,Cr和Al均可提高镀层的抗氧化变色能力。本发明的制备方法,提高了镀层的致密性,减少了薄膜内部缺陷,因此降低了表面接触电阻,有利于滤波器的整机性能的提升。