一种LPDDR基板设计方法、LPDDR基板和电子设备

基本信息

申请号 CN202010056038.6 申请日 -
公开(公告)号 CN111246669B 公开(公告)日 2021-07-30
申请公布号 CN111246669B 申请公布日 2021-07-30
分类号 H05K3/00(2006.01)I;H05K3/02(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 李虎;谭少鹏 申请(专利权)人 深圳市德明利技术股份有限公司
代理机构 深圳市道勤知酷知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 何兵;饶盛添
地址 518000广东省深圳市福田区梅林街道梅都社区中康路136号深圳新一代产业园1栋A座2501、2401
法律状态 -

摘要

摘要 本发明揭示了一种LPDDR基板设计方法、LPDDR基板和电子设备其中,一种LPDDR基板设计方法,包括:在LPDDR基板上确定芯片封装区;在芯片封装区两端的相邻区域分别设置有第一蚀刻区和第二蚀刻区,其中,第一蚀刻区和第二蚀刻区均用于设置第一电镀引线,第一电镀引线与LPDDR基板上的待电镀的电路网络电连接。本设计方法电镀引线蚀刻区域集中,后期检查方便,几乎没有残留引线线尾,很好地解决了传统基板设计造成的弊端,满足了LPDDR基板的性能要求和美观要求。