硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法

基本信息

申请号 CN202010087861.3 申请日 -
公开(公告)号 CN111290216A 公开(公告)日 2020-06-16
申请公布号 CN111290216A 申请公布日 2020-06-16
分类号 G03F7/11(2006.01)I 分类 -
发明人 王静;肖楠;宋里千 申请(专利权)人 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
代理机构 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 代理人 厦门恒坤新材料科技股份有限公司
地址 361000福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于光刻领域,公开提供了一种硬掩膜组合物和硬掩膜及图案形成方法。所述硬掩膜组合物含有聚合物以及溶剂,所述聚合物具有化学式1所示的结构,其中,R1表示氢原子、碳原子为1~6的取代或非取代的烷基或碳原子数为6~30的取代或非取代的芳基;Ar1和Ar2各自独立地表示取代或非取代的苯基或萘基;n为1~100的整数。由本发明提供的硬掩膜组合物形成的硬掩膜具有高耐热性和耐刻蚀性。