硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法
基本信息
| 申请号 | CN202010087862.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111240153A | 公开（公告）日 | 2020-06-05 |
| 申请公布号 | CN111240153A | 申请公布日 | 2020-06-05 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 王静;肖楠;宋里千 | 申请（专利权）人 | 厦门恒坤新材料科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 厦门恒坤新材料科技股份有限公司 |
| 地址 | 361000福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于光刻领域，公开了一种硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法。所述硬掩膜组合物含有聚合物以及溶剂，所述聚合物具有化学式1所示的结构，其中，R1和R2各自独立地表示被至少一个氧原子间隔开的碳原子数为2～15的取代或非取代烷基或含有羰基的基团；R3表示碳原子数为1～5的取代或非取代烷基或者碳原子数为6～50的直链或支链芳基；n为1～500的整数。本发明提供的硬掩膜组合物具有优异的溶剂溶解性、空隙填充特性和平坦化特性，由其形成的硬掩膜具有良好的耐刻蚀性。 |
