一种高孔均匀性微多孔膜及其制备方法、电池
基本信息
申请号 | CN202111127876.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113904059A | 公开(公告)日 | 2022-01-07 |
申请公布号 | CN113904059A | 申请公布日 | 2022-01-07 |
分类号 | H01M50/403(2021.01)I;H01M50/491(2021.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 庄志;宫晓明;彭锟;李堃;虞少波;程跃 | 申请(专利权)人 | 上海恩捷新材料科技有限公司 |
代理机构 | 上海远同律师事务所 | 代理人 | 张坚 |
地址 | 201306上海市浦东新区南芦公路155号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及锂电隔膜技术领域,具体公开了一种高孔均匀性微多孔膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将聚烯烃及成孔剂混合加热到熔融状;(2)经过模头,降温至成薄片;(3)经过除油辊,将薄片内部的成孔剂吸出;(4)升温至少沿一个轴向进行拉伸;(5)再次至少沿一个轴向拉伸定型;(6)收卷得到高孔均匀性微多孔膜;其中步骤(3)中所述除油辊表面有微孔流道,中央有中空管道和加热盘管;所述中空管道与辊表面的微孔流道相连,外部与抽真空机相连;所述加热盘管与外部换热站相连。采用该方法制备出的隔膜具有孔隙率低、孔均匀性极高、面阻率低、D值极高(D=针刺强度/厚度)的特性。 |
