一种结构光测量系统高精度校准方法
基本信息
| 申请号 | CN202010534367.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111649696A | 公开（公告）日 | 2021-07-06 |
| 申请公布号 | CN111649696A | 申请公布日 | 2021-07-06 |
| 分类号 | G01B11/25 | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 温捷文 | 申请（专利权）人 | 珠海博明传感器技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京华际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 邓大文 |
| 地址 | 519000 广东省珠海市高新区唐家湾镇软件园街（路）1号生产加工中心5#一层8单元B区04-06室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种结构光测量系统高精度校准方法，本方法通过投影装置向被测量物体表面发出投射光，所述投射光通过光栅条纹投射到被测量物体上，通过线性亮度平衡方法在投影装置发出透射光之前对投射光进行线性亮度平衡；图像采集装置采集被测量物体表面的投射光，形成投射光图像，在形成投射光图像时，对投射光产生的正弦条纹进行补偿，形成理想正弦条纹；对投射光图像进行解调得到被测量物体的三维信息，使用拟合平面替代原基底相位的方法用拟合平面替代原基底平面，实现高精度成像，周期对投影过程中产生的投影条纹均匀性不好、条纹存在初次噪声和基底相位不平问题进行解决，该方法有效地提高了结构光检测精度。 |
