一种半导体设备Lowershield装置部件洗净喷砂保护治具

基本信息

申请号 CN202021601914.0 申请日 -
公开(公告)号 CN212706251U 公开(公告)日 2021-03-16
申请公布号 CN212706251U 申请公布日 2021-03-16
分类号 B24C9/00(2006.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 王永东;张正伟 申请(专利权)人 安徽富乐德科技发展股份有限公司
代理机构 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 代理人 李坤
地址 244000安徽省铜陵市金桥经济开发区
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体设备Lower shield装置部件洗净喷砂保护治具,包括第一保护面和第二保护面,所述第一保护面和第二保护面连接处构成一个凹槽,相对于手工胶带保护能够大幅度提高喷砂范围的精度。与现有技术相比,由于是治具保护,对于被保护的不锈钢部件表面不会留下残胶,污垢等副产物,洗净喷砂遮蔽保护治具可以重复利用,可代替手工胶带遮蔽部件的非喷砂区域,具有使用方便,精度高,可重复使用及节省人力及物料成本的特点。