一种半导体设备Lowershield装置部件洗净喷砂保护治具
基本信息
申请号 | CN202021601914.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN212706251U | 公开(公告)日 | 2021-03-16 |
申请公布号 | CN212706251U | 申请公布日 | 2021-03-16 |
分类号 | B24C9/00(2006.01)I | 分类 | 磨削;抛光; |
发明人 | 王永东;张正伟 | 申请(专利权)人 | 安徽富乐德科技发展股份有限公司 |
代理机构 | 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 李坤 |
地址 | 244000安徽省铜陵市金桥经济开发区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种半导体设备Lower shield装置部件洗净喷砂保护治具,包括第一保护面和第二保护面,所述第一保护面和第二保护面连接处构成一个凹槽,相对于手工胶带保护能够大幅度提高喷砂范围的精度。与现有技术相比,由于是治具保护,对于被保护的不锈钢部件表面不会留下残胶,污垢等副产物,洗净喷砂遮蔽保护治具可以重复利用,可代替手工胶带遮蔽部件的非喷砂区域,具有使用方便,精度高,可重复使用及节省人力及物料成本的特点。 |
