硅片对准标记的曝光装置和曝光方法
基本信息
| 申请号 | CN201710561689.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107145043A | 公开（公告）日 | 2017-09-08 |
| 申请公布号 | CN107145043A | 申请公布日 | 2017-09-08 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 黄惠杰;朱箐 | 申请（专利权）人 | 上海镭慎光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海恒慧知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 上海镭慎光电科技有限公司 |
| 地址 | 201821 上海市嘉定区叶城路1288号6幢J832室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种硅片对准标记的曝光装置和曝光方法，曝光装置由光源模块、照明模块、能量监测模块、成像模块、安装主框架、硅片高度传感器、掩模台、硅片台和控制模块组成，本发明包含两个以上的照明‑成像单元，可在硅片表面同时进行两个或两个以上对准标记的曝光。节省了硅片对准标记的曝光时间，从而提高了IC生产线的生产效率，节省了IC生产成本。 |
