首页/ 内蒙古中晶科技研究院有限公司/ 专利详情

一种快速均匀化CVI致密坩埚的装置

基本信息

申请号 CN202021092472.1 申请日 -
公开（公告）号 CN212834136U 公开（公告）日 2021-03-30
申请公布号 CN212834136U 申请公布日 2021-03-30
分类号 C30B15/00(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;C30B15/10(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 赵永尚;赵永雷;张全顺;张彦利 申请（专利权）人 内蒙古中晶科技研究院有限公司
代理机构 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 代理人 覃曼萍
地址 010070内蒙古自治区呼和浩特市金桥开发区宝力尔街15号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种快速均匀化CVI致密坩埚的装置，包括炉体，所述炉体底部固定设有天然气孔，所述炉体内设有石墨筒，所述天然气孔与石墨筒相通设置，所述石墨筒内从下到上依次设有三个筛板和三个坩埚，两个筛板之间设有一个坩埚，所述筛板顶面边缘处设有多个第一垫块，所述第一垫块上设有坩埚，所述筛板顶面中心处设有第二垫块，所述第二垫块顶面设有挡气板，所述挡气板设置在坩埚内。本实用新型可以避免坩埚直接接触，加大坩埚之间缝隙，让天然气向坩埚外部流通，保证坩埚内外均匀沉积，增加产品沉积密度均匀性，提升产品品质，提高客户满意度。