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一种偏心打磨抛光装置

基本信息

申请号 CN202110212659.3 申请日 -
公开（公告）号 CN112936100A 公开（公告）日 2021-06-11
申请公布号 CN112936100A 申请公布日 2021-06-11
分类号 B24B47/12;B24B41/04;B24B29/00 分类 磨削；抛光;
发明人 许亮;陈永福;魏熙阳;罗小百 申请（专利权）人 宇环数控机床股份有限公司
代理机构 长沙新裕知识产权代理有限公司 代理人 刘熙
地址 410323 湖南省长沙市浏阳高新技术产业开发区永阳路9号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种偏心打磨抛光装置，包括抛光输出轴、与所述抛光输出轴一端固连的偏心轴承座、通过轴承安装在偏心轴承座上的用于安装抛光盘的自转转轴，还包括与抛光输出轴同轴安装的内齿轮、用于固定内齿轮的齿轮座、固定在自转转轴上与自转转轴同轴的外齿轮，所述自转转轴与抛光输出轴相互平行但不同心，偏心距为N，所述内齿轮为固定齿轮，所述外齿轮与内齿轮啮合并沿内齿轮的内齿滚动，所述外齿轮和内齿轮的中心距等于所述自转转轴与抛光输出轴的偏心距N。本发明通过内外齿轮的相对滚动使得自转转轴的自转速度始终被控制，从而获得稳定的自转速度，抛光盘的转速不会因为打磨压力大小而产生变化，可提高抛光效率。