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一种多工位抛光压力反馈补偿机构

基本信息

申请号 CN202010109938.2 申请日 -
公开（公告）号 CN113370052A 公开（公告）日 2021-09-10
申请公布号 CN113370052A 申请公布日 2021-09-10
分类号 B24B29/02（2006.01）I;B24B41/02（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I;B24B41/00（2006.01）I;B24B49/16（2006.01）I 分类 磨削；抛光;
发明人 许亮;陈永福;魏熙阳;郭克文 申请（专利权）人 宇环数控机床股份有限公司
代理机构 长沙新裕知识产权代理有限公司 代理人 刘熙
地址 410323湖南省长沙市浏阳高新技术产业开发区永阳路9号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种多工位抛光压力反馈补偿机构，包括工作台、设在工作台上的若干工作单元，所述工作单元包括设在工作台上的滑轨、沿滑轨移动的第一滑台和第二滑台、驱动第二滑台移动的驱动装置、设在第一滑台上设有工件夹具且可旋转的工件轴和驱动工件轴旋转的旋转驱动装置，所述第一滑台和第二滑台之间通过压力传感器连接，各工作单元的压力传感器和驱动装置与压力反馈系统电连接。本发明可以保证同时加工的多个工位的工件侧面抛光压力一致，保证加工质量，提高良品率，解决因各工位工件所受抛光压力不同，影响产品质量，导致不良品率较高的问题。