一种VGF法生长单晶的循环水温控装置
基本信息
| 申请号 | CN202022378186.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213507286U | 公开（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申请公布号 | CN213507286U | 申请公布日 | 2021-06-22 |
| 分类号 | C30B11/00（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 陈娅君;刘汉保;普世坤;柳廷龙;叶晓达;柳廷芳;黄平;吕春富;张春珊;王顺金;陈维迪 | 申请（专利权）人 | 云南鑫耀半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 昆明祥和知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董昆生 |
| 地址 | 650000云南省昆明市高新区电子工业标准厂房A栋1楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种VGF法生长单晶的循环水温控装置，属于半导体材料技术领域，包括单晶炉、循环水系统，所述循环水系统包括循环水箱、主管道、支路管道，循环水依次经主管道、支路管道至单晶炉，经过单晶炉后再依次经支路管道、主管道流回循环水箱，所述单晶炉进水管道上设置有循环水流量调节阀和温控装置，单晶炉出水管道上设置有测温装置，本实用新型结构可根据上轮的晶体生长结果对下一轮的温场进行微幅度修正，该发明具有降低生产成本、提高单晶率、弥补温场缺陷等作用。 |
