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3D无损抛光设备

基本信息

申请号 CN201922353623.8 申请日 -
公开（公告）号 CN211681548U 公开（公告）日 2020-10-16
申请公布号 CN211681548U 申请公布日 2020-10-16
分类号 B24B31/10(2006.01)I 分类 -
发明人 唐志辉;黎伟;刘双龙;易小虎;乐桂英;欧阳有粮;马永恒 申请（专利权）人 昆山明创电子科技有限公司
代理机构 南京纵横知识产权代理有限公司 代理人 范金荣;董建林
地址 215300江苏省苏州市昆山市玉山镇新城南路515号7号厂房
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种3D无损抛光设备，包括两个支撑架、架设在两个支撑架中部的导轨，支撑架下方固定设置磁场发生装置和驱动磁场发生装置的第一电机，导轨上滑动设置可移动磁场端，可移动磁场端穿设丝杠，丝杠端部在第二电机驱动下旋转以带动可移动磁场端沿导轨左右移动，两个支撑架顶部设置储液槽，储液槽内充满多个磁性件的抛光溶剂。磁性件为磁针。磁针两端部圆滑过渡。导轨截面呈倒T型，可移动磁场端具有与导轨配合的凹槽。本实用新型的3D无损抛光设备抛光效率高、不易损伤抛光件，能够对凹型曲面工件等异形件和嵌入式的孔槽进行抛光处理。抛光到位、抛光精度较高。