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一种用于解决硅片表面清洗过程划伤和沾污的底座装置

基本信息

申请号 CN202023072823.5 申请日 -
公开（公告）号 CN213816083U 公开（公告）日 2021-07-27
申请公布号 CN213816083U 申请公布日 2021-07-27
分类号 H01L21/67（2006.01） 分类 基本电气元件;
发明人 张帅;梁兴勃;卢飞红;荆涛;刘亮荣;陆宇凡;卢锋;刘建刚 申请（专利权）人 浙江金瑞泓科技股份有限公司
代理机构 上海泰能知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 王亮;孙健
地址 315800 浙江省宁波市保税东区0125-3地块
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种用于解决硅片表面清洗过程划伤和沾污的底座装置，包括底座，所述的底座呈长板状结构，该底座的上端面上沿着长度方向均匀开设有多个凹槽，所述的凹槽的两侧分别贯穿底座两侧的侧壁，该凹槽的底面为斜面，所述的斜面上均匀布置有若干个孔洞，所述的孔洞呈竖直布置且下端贯穿底座的底面。本实用新型通过多个凹槽将片架一一分隔开来，硅片由于凹槽的斜面倾斜，硅片会通过自身重力作用斜靠到片架上，这样可以有效避免硅片在清洗过程中由于相互吸附和碰撞，导致清洗后硅片表面出现划伤和沾污，有利于提高硅片表面清洗质量。