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一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法

基本信息

申请号	CN201911404205.5	申请日	-
公开（公告）号	CN111679347A	公开（公告）日	2020-09-18
申请公布号	CN111679347A	申请公布日	2020-09-18
分类号	G02B1/115(2015.01)I	分类	-
发明人	王平秋;魏涛;林先勇;何开伦;杨柳;张志斌;王金龙;于清;代礼密;姚德武;游中华;刘卫强;余小燕;杨洋;何坚;吴杨海;邓漾;赵龙	申请（专利权）人	成都光明光学元件有限公司
代理机构	中国兵器工业集团公司专利中心	代理人	西南技术物理研究所;成都光明光学元件有限公司
地址	610041四川省成都市武侯区人民南路四段七号
法律状态	-

摘要

本发明涉及一种高损伤阈值激光薄膜工艺技术方法，属于镀制光学薄膜领域。本发明为克服常规激光薄膜镀制技术在可见光和近红外波段镀制激光薄膜抗激光损伤阈值较低的缺点，通过以石英或K9作为镀膜基底，以蓝宝石作衬底膜料M，以HfO2作高折射率膜料H，以SiO2作低折射率膜料L，利用TFC给出各层膜系的几何厚度和膜系顺序计算结果；超声波清洗和加温烘烤所述镀膜基底；在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，将三种膜料依次放入电子枪蒸发源坩锅舟内，然后按各层膜系的几何厚度和膜系顺序完成镀膜工艺；在镀膜前和镀膜过程中用离子源轰击所述镀膜基底。本发明的膜层坚硬牢固，抗激光损伤性能优良，通透性能好，并能在野外恶劣环境长久使用。