离子注入跑片方法和离子注入跑片系统
基本信息
申请号 | CN201710183422.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN106981540B | 公开(公告)日 | 2019-07-23 |
申请公布号 | CN106981540B | 申请公布日 | 2019-07-23 |
分类号 | H01L31/18;H01L21/266;H01L21/677;H01L21/67 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 钱锋;宋银海;贾银海;姚飞;埃尔詹·马兹 | 申请(专利权)人 | 东莞帕萨电子装备有限公司 |
代理机构 | 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 东莞帕萨电子装备有限公司 |
地址 | 523000 广东省东莞市寮步镇塘唇管理区金富二路 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开一种离子注入跑片方法,包括以下步骤:A)将多个硅片排列放入硅片托盘上。B)多个载有硅片的硅片托盘同时由多个输送带装置输送至缓冲区。C)硅片托盘上的硅片经过离子注入设备注入其中一种离子后输送到切换区。D)切换区内还设有隔板孔切换装置。E)硅片托盘反向输送至离子注入设备的位置时,离子注入设备将另一种离子注入硅片托盘上的硅片上。F)硅片托盘上的硅片注入两种离子后,输送回缓冲区完成离子注入。本发明离子注入的条件只需要在硅片托盘进出的真空度一致即可实现;该方法采用离子扩散的方式无法实现;本方法采用离子注入的方式,控制单种类型的离子逐一注入硅片上,可以通过调节离子注入设备的离子注入的种类,能量和注入剂量,使离子注入的效果更佳,制作成本更低。 |
