双喷头MOCVD反应室
基本信息
| 申请号 | CN201510324888.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104962878B | 公开（公告）日 | 2017-10-20 |
| 申请公布号 | CN104962878B | 申请公布日 | 2017-10-20 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C30B25/08(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 冉军学;胡国新;李晋闽;王军喜;段瑞飞;曾一平 | 申请（专利权）人 | 新泰中科优唯电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京和信华成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 北京中科优唯科技有限公司;山西中科潞安紫外光电科技有限公司 |
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区经海五路58号院5号楼7层708室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种金属有机气象化学沉积反应室，所述反应室包括：腔体，所述腔体包括顶板、底板和侧壁，所述顶板底板和侧壁围成基本封闭的腔室；上进气喷淋头，设置于所述反应室腔室内的上部与气源连通；下进气喷淋头，设置于所述反应室腔室内的下部与气源连通；托盘组件，固定设置在所述反应腔体内的中部，所述托盘组件包括上基底托盘和下基底托盘，所述上基底托盘和下基底托盘相背对设置，所述上基底托盘与所述上进气喷淋头相对；所述下基底托盘与所述下进气喷淋头相对；加热器，位于上基底托盘和下基底托盘之间。通过这种反应室能够有效提高空间利用率、气体利用率及热能的利用率。 |
