一种用于晶圆外延处理的自动化设备及其操作方法
基本信息
申请号 | CN201910769316.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN110670128A | 公开(公告)日 | 2020-01-10 |
申请公布号 | CN110670128A | 申请公布日 | 2020-01-10 |
分类号 | C30B25/20;C30B29/06;C23C16/24;C23C16/54;H01L21/67;H01L21/677 | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
发明人 | 陈存强;田达晰;王震;周国峰;梁兴勃 | 申请(专利权)人 | 金瑞泓微电子(衢州)有限公司 |
代理机构 | 上海泰能知识产权代理事务所 | 代理人 | 王亮 |
地址 | 324000 浙江省衢州市绿色产业集聚区盘龙南路52号9幢 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种用于晶圆外延处理的自动化设备及其操作方法,包括外轮廓检测台、晶圆反应台和第一机械手,所述的外轮廓检测台右侧安装有晶圆反应台,晶圆反应台上端转动安装有转台,所述的外轮廓检测台上转动安装有与转台对应的第二机械手,所述的外轮廓检测台和晶圆反应台的上端安装有密封罩,所述的密封罩左端安装有与密封罩连通的置换腔平台。本发明有效降低晶圆的膜厚和电阻率波动、解决晶圆因在支撑器上位置偏差过大导致产品失效等问题。 |
