一种用于基件卷对卷的曝光装置
基本信息
| 申请号 | CN202110153987.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113219791A | 公开（公告）日 | 2021-08-06 |
| 申请公布号 | CN113219791A | 申请公布日 | 2021-08-06 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李文章;张雷 | 申请（专利权）人 | 源能智创（江苏）半导体有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 215399 江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号华平（昆山）智造园B-6号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种卷对卷曝光装置及曝光方法，包括滚筒、传动轮组、曝光系统，基件在所述传动轮组带动下贴附在所述滚筒圆周表面转动并完成曝光，还包括放料装置、收料装置、暂存料装置，用于基件的收卷或/和放卷。本发明的卷对卷曝光装置的基件通过滚筒上分布的真空吸附空形成负压有效贴附在滚筒圆周表面并进行对准及曝光，增加了基件在滚筒上的平整度，有效提升了基件的对准及曝光效果；暂存料装置在对第一面已曝光的基件收卷后可以实现反转，将第一面已曝光的基件放卷再次传送到滚筒完成第二面曝光，节省了一套对位装置及曝光装置。 |
