带气幕保护的反应塔

基本信息

申请号 CN201320269951.X 申请日 -
公开(公告)号 CN203534146U 公开(公告)日 2014-04-09
申请公布号 CN203534146U 申请公布日 2014-04-09
分类号 F27B5/04(2006.01)I;F27B5/16(2006.01)I 分类 炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉〔4〕;
发明人 高玉忠;屈瑶;董明 申请(专利权)人 恒正科技(苏州)有限公司
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人 恒正科技(苏州)有限公司;苏州工业园区日高能源科技有限公司
地址 215026 江苏省苏州市工业园区华虹街29号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供了一种带气幕保护的反应塔,所述反应塔包括塔体,在所述的塔体内安装有由气管连通成管网构成的环壁保护气体喷射系统,在所述气管上分布着喷嘴,所述喷嘴在气管上分布的位置及开口方向,使相邻气管上的喷嘴喷出的气流共同形成环壁保护的气幕。本实用新型的反应塔环壁保护气体喷射系统喷射进入塔体,在塔体内形成一层与塔体内壁平行或垂直的保护气幕;该气幕既可提供塔体内物料处理或反应时所需的均匀保护气氛,又可作为传热介质将炉壁热量直接传导给物料,有助于热源的有效利用和反应温度的有效控制;同时该气幕还可控制物料运动方向、产品生长方向、防止物料与塔壁直接接触,避免副反应发生,保持塔壁清洁。