一种降低晶圆应力的屏蔽栅沟槽MOSFET的掩膜版
基本信息
申请号 | CN202020766860.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN212209483U | 公开(公告)日 | 2020-12-22 |
申请公布号 | CN212209483U | 申请公布日 | 2020-12-22 |
分类号 | H01L25/07(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 陈桥梁;刘挺;王新;楼颖颖;杨乐 | 申请(专利权)人 | 旭矽半导体(上海)有限公司 |
代理机构 | 西安新思维专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 龙腾半导体股份有限公司;旭矽半导体(上海)有限公司 |
地址 | 710018陕西省西安市未央区经济技术开发区凤城十二路1号出口加工区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及一种降低晶圆应力的屏蔽栅沟槽MOSFET的掩膜版,所述掩膜版包含由不同走向沟槽的芯片组成的芯片矩阵;所述芯片矩阵内包含两种芯片,其芯片尺寸面积和设计相同,仅沟槽走向不同,两者的沟槽走向相互垂直。本实用新型将晶圆生产中产生的应力通过不同图形的排布相互抵消,实现较少减薄至200微米以下时,晶圆水平方向的翘曲度,便于后续的晶圆封装和晶圆测试的自动化作业,减少碎片引入的损失和沾污。 |
