一种MOSFET器件终端

基本信息

申请号 CN202022413901.7 申请日 -
公开(公告)号 CN213601873U 公开(公告)日 2021-07-02
申请公布号 CN213601873U 申请公布日 2021-07-02
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 袁力鹏;范玮;完颜文娟;常虹 申请(专利权)人 华羿微电子股份有限公司
代理机构 广州三环专利商标代理有限公司 代理人 党娟娟;郭永丽
地址 710018陕西省西安市未央区经济技术开发区草滩生态产业园尚稷路8928号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种MOSFET器件终端,涉及半导体功率器件领域。用于解决现有钝化层制备存在工艺复杂以及成本较高的问题。包括:所述源极区金属层、所述栅极区金属层、所述外围截至区金属层均分布在隔离氧化层上表面,且所述源极区金属层、所述栅极区金属层、所述外围截至区金属层之间均分布有所述dummy金属层;所述隔离氧化层上表面、所述dummy金属层、所述源极区金属层、所述栅极区金属层、所述外围截至区金属层的上表面和侧壁上均设置一层所述氮化硅层;所述dummy金属层之间、所述dummy金属层与所述源极区金属层之间、所述dummy金属层与栅极区金属层之间、所述dummy金属层与所述外围截至区金属层之间还设置所述硅玻璃层。