多极网格离子发射加速器
基本信息
| 申请号 | CN93213940.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN2164417Y | 公开（公告）日 | 1994-05-11 |
| 申请公布号 | CN2164417Y | 申请公布日 | 1994-05-11 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 倪振中 | 申请（专利权）人 | 昆明航天科发镀膜公司 |
| 代理机构 | 云南省专利事务所 | 代理人 | 孙月红 |
| 地址 | 650206云南省昆明市东郊八公里通字301昆明物资站 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种用于镀膜机上可与同轴磁控溅射靶配套使用的多极网格离子发射加速器，它利用金属环(1)和支撑环的两层金属杆(2)以及金属杆上及外围装有的发热装置(4)(5)和加速电极装置(3)构成一多极网格型离子发射加速器，在磁控溅射离子镀膜中起到离子发射加速及发热作用，以增强镀膜层与基体的结合强度及加快镀膜周期。由于本实用新型偏压采用电子—离子加速—离子结合形式，使基板(工件)所收集到的离子流是靶电流的10—15％。 |
