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新型超材料及其制作工艺

基本信息

申请号 CN201210050499.8 申请日 -
公开（公告）号 CN103296441A 公开（公告）日 2021-10-19
申请公布号 CN103296441A 申请公布日 2021-10-19
分类号 H01Q15/00 分类 基本电气元件;
发明人 刘若鹏;赵治亚;方小伟;郭文鹏 申请（专利权）人 深圳光启创新技术有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 518034 广东省深圳市福田区香梅路1061号中投国际商务中心A栋18B
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种新型超材料及其制作工艺，该材料包括至少一材料片层，每一材料片层包括介质衬底、光敏复合层及金属图层，所述光敏复合层位于所述介质衬底和所述金属图层之间，所述金属图层通过所述光敏复合层固定在所述介质衬底上。所述新型超材料的制作工艺包括以下步骤：S1、将介质衬底平放固定于工作台；S2、将光敏材料涂抹在所述介质衬底上，形成光敏复合层；S3、将人造金属微结构覆盖在所述光敏复合层上，形成金属图层；S4、用紫外光对所述光敏复合层进行照射，使所述光敏复合层固化。本发明制作工艺简单，通过该制作工艺可选择多种材料作为超材料的介质衬底，以满足不同超材料电磁特性的需求，同时介质衬底和金属图层结合更牢固。