新型超材料及其制作工艺
基本信息
| 申请号 | CN201210050499.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103296441B | 公开（公告）日 | 2021-10-19 |
| 申请公布号 | CN103296441B | 申请公布日 | 2021-10-19 |
| 分类号 | H01Q15/00 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 刘若鹏;赵治亚;方小伟;郭文鹏 | 申请（专利权）人 | 深圳光启创新技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518057 广东省深圳市南山区高新区中区高新中一道9号软件大厦2楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种新型超材料及其制作工艺，该材料包括至少一材料片层，每一材料片层包括介质衬底、光敏复合层及金属图层，所述光敏复合层位于所述介质衬底和所述金属图层之间，所述金属图层通过所述光敏复合层固定在所述介质衬底上。所述新型超材料的制作工艺包括以下步骤：S1、将介质衬底平放固定于工作台；S2、将光敏材料涂抹在所述介质衬底上，形成光敏复合层；S3、将人造金属微结构覆盖在所述光敏复合层上，形成金属图层；S4、用紫外光对所述光敏复合层进行照射，使所述光敏复合层固化。本发明制作工艺简单，通过该制作工艺可选择多种材料作为超材料的介质衬底，以满足不同超材料电磁特性的需求，同时介质衬底和金属图层结合更牢固。 |
