一种深紫外斜入射高分辨率暗场照明光学系统
基本信息
| 申请号 | CN202011162660.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112162395A | 公开（公告）日 | 2021-01-01 |
| 申请公布号 | CN112162395A | 申请公布日 | 2021-01-01 |
| 分类号 | G02B21/10(2006.01)I;G02B21/16(2006.01)I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 林子棋 | 申请（专利权）人 | 合肥市纳诺半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京中济纬天专利代理有限公司 | 代理人 | 江苏三米科思半导体设备有限公司 |
| 地址 | 230088 安徽省合肥市高新区望江西路800号创新产业园一期D8-2256 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及光学系统技术领域，尤其涉及一种深紫外斜入射高分辨率暗场照明光学系统，包括光源、扩束镜、波片、光束偏转器、中继镜、物镜和工作台，光源负责提供照明光源，光源可以选择激光或者气体放电灯，该光源的辐射波长为0.19~0.28微米范围内，可以包含单色光或者复色光，其辐射方式可以使用脉冲辐射或者连续辐射，扩束镜负责将光束扩束到一定尺寸。本发明能够满足纳米级的散射光暗场检测精度对照明光学系统的需求，而且使用了0.19~0.28微米波长的光源，聚焦光斑小于0.68微米，在光轴方向上的工作距离超过了50mm，并具有结构紧凑、高像质、低畸变、高分辨率等特点，能够满足不同应用场景下的使用需求。 |
