阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置
基本信息
| 申请号 | CN202110417586.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113126376A | 公开（公告）日 | 2021-07-16 |
| 申请公布号 | CN113126376A | 申请公布日 | 2021-07-16 |
| 分类号 | G02F1/1362（2006.01）I;G02F1/1343（2006.01）I;H01L27/12（2006.01）I;H01L21/84（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 赵立星;高锦成;刘泽旭;钱海蛟;汪涛;陈亮;陆文涛 | 申请（专利权）人 | 合肥京东方显示技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京博思佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张玲玲 |
| 地址 | 230012安徽省合肥市新站区新站工业物流园内A组团E区15幢综合楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置。所述阵列基板包括透明衬底、位于所述透明衬底上的透明介质层、位于所述透明介质层上的第一电极层、位于所述第一电极层上的像素电路层及位于所述像素电路层上的第二电极层。所述透明介质层的折射率大于所述透明衬底的折射率，且小于所述第一电极层的折射率。所述第一电极层与所述第二电极层中的一个为公共电极层，另一个为像素电极层。所述显示面板包括所述阵列基板。所述显示装置包括所述显示面板。 |
