光刻胶收集装置自动清洗系统
基本信息
| 申请号 | CN202022577530.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214516414U | 公开（公告）日 | 2021-10-29 |
| 申请公布号 | CN214516414U | 申请公布日 | 2021-10-29 |
| 分类号 | B08B3/12（2006.01）I;B08B3/14（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B08B9/093（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 吴永利 | 申请（专利权）人 | 芯米（厦门）半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吴圳添 |
| 地址 | 361000福建省厦门市火炬高新区（翔安）产业区春风路6号第三层301 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种光刻胶收集装置自动清洗系统，包括清洗液罐、收集装置、集液箱、导液管、第一泵体、超声波清理装置、滤网、循环管、PLC控制系统、触摸屏和喷嘴，所述清洗液罐顶端设置有进液口，清洗液罐右侧上设置有导液管，所述导液管一端与清洗液罐相通，另一端设置有第一泵体，所述第一泵体一端设置有输送管，输送管穿过收集装置外壳设置在收集装置内部，所述输送管上设置有通管，所述通管底端设置有喷嘴，所述收集装置内部两侧设置有超声波清理装置，收集装置底端设置有导流板，PLC控制系统可以使整个清洗系统进行编程控制的，使各个单元的运转时间可以根据要求增减，清洗的顺序可以改变，方便操作。 |
