一种立式真空镀膜室
基本信息
| 申请号 | CN202021952962.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213232468U | 公开（公告）日 | 2021-05-18 |
| 申请公布号 | CN213232468U | 申请公布日 | 2021-05-18 |
| 分类号 | C23C14/22;C23C14/50 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 渠艳良;李雷 | 申请（专利权）人 | 派珂纳米科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创策知识产权代理有限公司 | 代理人 | 范圆圆 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种立式真空镀膜室，包括镀膜室和物料架；镀膜室的顶部设有密封盖，镀膜室侧壁的上端设有进气口，下端设有出气口，出气口连接有抽真空管；镀膜室的底部安装有转动盘，转动盘的转轴通过联轴器与旋转电机的输出轴固定连接；物料架包括安装板和物料板；物料板上设有多个一一对应的通孔和凸块；安装板上固定有多个支撑杆，物料板与支撑杆固定连接；镀膜材料从上端的进气口进入镀膜腔之后向下扩散，在经过物料板时，对放置在物料板上或者吊挂在通孔下方的工件进行镀膜，能有效提高镀膜的均匀度，保证了镀膜质量。 |
