一种等离子体真空镀膜室
基本信息
| 申请号 | CN202120090899.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214458315U | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN214458315U | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | C23C16/50;C23C16/455;C23C16/458 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 渠艳良;李雷 | 申请（专利权）人 | 派珂纳米科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创策知识产权代理有限公司 | 代理人 | 范圆圆 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种等离子体真空镀膜室，包括镀膜室，镀膜室的顶部设有密封盖，底部设有出气口；镀膜室的侧壁上设有进气口，进气口的内侧设有分流板；镀膜室的底部安装有转动盘，转动盘的转轴通过联轴器与旋转电机的输出轴固定连接；物料架放置在转动盘上，物料架的外围安装有两个相对设置的弧形电极板；利用分流板使反应气体尽可能均匀的分布在镀膜室内，利用转动盘驱动物料架旋转，使反应物质能均匀的沉积在工件表面，保证了镀膜质量。 |
