一种真空镀膜室的进料结构
基本信息
| 申请号 | CN202021599322.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212983044U | 公开（公告）日 | 2021-04-16 |
| 申请公布号 | CN212983044U | 申请公布日 | 2021-04-16 |
| 分类号 | C23C16/448(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 渠艳良;李雷 | 申请（专利权）人 | 派珂纳米科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创策知识产权代理有限公司 | 代理人 | 范圆圆 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种真空镀膜室的进料结构，包括镀膜室以及用于给镀膜室输送镀膜材料的出料管；镀膜室的腔壁上固定有将其贯穿的进料管；出料管靠近进料管的一端设有半球形的对接头，使两者可以多角度灵活对位，安装方便；进料管内插接有朝镀膜室内延伸的延长管，利用延长管将镀膜材料导入镀膜室内腔，有效防止镀膜材料在入口处堆积造成泄漏。 |
