一种双气化真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202120090894.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214458317U | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN214458317U | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | C23C16/54;C23C16/455 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 渠艳良;李雷 | 申请（专利权）人 | 派珂纳米科技（苏州）有限公司 |
| 代理机构 | 苏州创策知识产权代理有限公司 | 代理人 | 范圆圆 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种双气化真空镀膜装置，包括机架、分解管、分解炉、升华炉以及两个并排设置的升华管；分解炉套设在分解管外且通过安装支架固定安装在机架上；升华管的进料端设有端盖，出料端安装有闸阀；两个升华管的出料端通过一个三通管与分解管的进料端连通；升华炉通过移动组件滑动安装在机架上；利用其中一个升华管镀完一层膜之后，可直接将升华炉移动到另一个升华管外进行二次镀膜，有效提高镀膜效率的同时无需破真空就能完成双层镀膜，避免污染。 |
