高洁净度的曝光装置
基本信息
| 申请号 | CN202120858458.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214918384U | 公开（公告）日 | 2021-11-30 |
| 申请公布号 | CN214918384U | 申请公布日 | 2021-11-30 |
| 分类号 | B08B1/00（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B08B17/02（2006.01）I;G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 伍佩铭;许迪;董鹏程;高辉;孙胜延;杨艳 | 申请（专利权）人 | 乾宇电子材料（东莞）有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王启蒙 |
| 地址 | 523000广东省东莞市松山湖园区工业西路14号1栋1704室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种高洁净度的曝光装置，该高洁净度的曝光装置包括基台、第一清洁组件以及第二清洁组件，定义基台具有上下方向和垂直上下方向的前后方向，基台的上表面形成有工作台面；第一清洁组件包括驱动件和清洁刷，驱动件设于基台，清洁刷连接于驱动件，并抵接于工作台面，清洁刷还可被驱动件驱动而在工作台面上沿前后方向往复移动；第二清洁组件包括风机过滤机组和导风罩，风机过滤机组设于基台，并位于工作台面的左侧，且风机过滤机组的出风端朝向工作台面，导风罩连通于风机过滤机组的出风端，并沿朝向工作台面的方向延伸设置。本实用新型技术方案能够提高曝光装置的曝光质量。 |
