一种磁控溅射镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201921005002.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210856323U | 公开（公告）日 | 2020-06-26 |
| 申请公布号 | CN210856323U | 申请公布日 | 2020-06-26 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张冲 | 申请（专利权）人 | 北京卓熠新能源科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 | 代理人 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 地址 | 100176北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街7号院6号楼3001室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及光伏设备技术领域，具体涉及一种磁控溅射镀膜设备。本实用新型实施例提供的磁控溅射镀膜设备，包括清洗腔室和镀膜腔室，清洗腔室内设有等离子清洗装置，衬底采用等离子轰击方式清洗，不需要用到有机溶剂，等离子体可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，可以使得清洗效率获得极大的提高；同时避免使用有危害性的有机溶剂清洗剂，也避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施；并且第一样品台设有多个，这样单次抽真空就可以对多个衬底进行清洗和镀膜作业，与现有的每一个衬底的镀膜都开腔、关腔、抽真空的方式相比，减少了开关镀膜腔室的次数，提高了镀膜产出效率。 |
