一种阵列图形绘制方法及系统
基本信息
| 申请号 | CN202111286402.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114089604A | 公开（公告）日 | 2022-02-25 |
| 申请公布号 | CN114089604A | 申请公布日 | 2022-02-25 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 涂先勤;尹鑫;吴塞 | 申请（专利权）人 | 杭州新诺微电子有限公司 |
| 代理机构 | 浙江永鼎律师事务所 | 代理人 | 陆永强;周祥玉 |
| 地址 | 311200浙江省杭州市萧山区南阳街道岩峰村（自然村）772号-28 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种阵列图形绘制方法，属于光刻技术领域，它解决了现有技术中图形绘制速度慢的问题。本阵列图形绘制方法，包含如下步骤，S1；读取矢量图文件；S2、将矢量图文件二值化；S3、提取图形中的轮廓；S4、将提取的轮廓与模板库中的轮廓进行匹配；S5、将匹配后的模板进行单元分组并记录各单元位置；S6、对单元分组图形进行精细化绘制；S7、将精细化绘制后的单元分组图形填充至步骤S5中记录的对应位置。本发明通过对矢量图进行处理，实现矢量图中单元阵列图形的提取，并对单元分组图形进行精细化绘制后，通过平移填充的方式恢复成光刻机可识别的位图，供光刻机曝光，利用本方法可大大节约绘图时间。 |
