一种高发光效率的量子点膜及其制备工艺
基本信息
申请号 | CN202010372351.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN111647380B | 公开(公告)日 | 2022-02-22 |
申请公布号 | CN111647380B | 申请公布日 | 2022-02-22 |
分类号 | C09J175/04(2006.01)I;C09J163/00(2006.01)I;C09J133/12(2006.01)I;C09J125/06(2006.01)I;C09J11/04(2006.01)I;C09J11/06(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I;B32B37/12(2006.01)I | 分类 | 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用; |
发明人 | 肖蔓达;黄瑜;刘亮 | 申请(专利权)人 | 武汉华彩光电有限公司 |
代理机构 | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 易贤卫 |
地址 | 430000湖北省武汉市蔡甸区奓山街白鹤泉西路158号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开一种高发光效率的量子点膜及其制备工艺。该高发光效率的量子点膜的制备工艺,包括以下步骤:按重量份,提供胶黏剂80~150份、无机粒子1~10份、量子点浓缩液1~10份和光引发剂0.1~5份,混合配置成量子点胶层涂布液;提供第一阻隔膜和第二阻隔膜,将量子点胶层涂布液涂覆于第一阻隔膜和第二阻隔膜间,得到量子点膜预制品;将量子点膜预制品进行多级固化处理,得到量子点膜。本发明采用光引发剂与多级固化工艺匹配的方式,优化量子点膜的固化工艺,提高固化效率和减少对量子点的影响,最终提高量子点膜光学性能的稳定性和产品生产过程中的良率。 |
