一种抛光垫及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010213590.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111216037B | 公开（公告）日 | 2021-03-30 |
| 申请公布号 | CN111216037B | 申请公布日 | 2021-03-30 |
| 分类号 | C09J163/00(2006.01)I;B24D11/00(2006.01)I;B24B37/22(2012.01)I;B24D3/34(2006.01)I;C09J11/04(2006.01)I;B24B37/24(2012.01)I;B24D3/28(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 王国微;汪静 | 申请（专利权）人 | 河南联合精密材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 郑州睿信知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郭佳效 |
| 地址 | 450000河南省郑州市经开区自贸试验区郑州片区（经开）第十七大街与经南八北二路交叉口东80米路北 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于抛光工具加工技术领域，具体涉及一种抛光垫及其制备方法。本发明的抛光垫的磨料层由以下质量百分比的组分组成：聚集体磨料10‑22％、偶联剂1‑5％、树脂结合剂45‑65％、碳酸钙10‑20％、氧化铈10‑20％、气相二氧化硅1‑5％、碳酸氢钠1‑5％、细丝纤维1‑3％。本发明的抛光垫磨料层中，碳酸氢钠作为成孔剂可以在固化过程中分解，产生微小气孔，有利于抛光垫抛光时进行排屑，有利于抛光效率的稳定，氧化铈、碳酸钙、气相二氧化硅、纳米氧化铝等作为填充材料能够保证工作层的强度，并且，氧化铈用作辅助磨料，气相二氧化硅能够防沉降使浆料成分均匀，细丝纤维在磨料层成型时起到骨架支撑的作用。 |
