一种用于单晶炉拉制不同直径硅单晶的水冷装置
基本信息
| 申请号 | CN202120107846.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215517739U | 公开（公告）日 | 2022-01-14 |
| 申请公布号 | CN215517739U | 申请公布日 | 2022-01-14 |
| 分类号 | C30B15/22（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 赵刚 | 申请（专利权）人 | 华耀光电科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京开阳星知识产权代理有限公司 | 代理人 | 樊晓敏 |
| 地址 | 010070 内蒙古自治区呼和浩特市如意工业园区沙尔沁镇阳光大街北、工农路东 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于单晶炉拉制不同直径硅单晶的水冷装置，包括同一轴心的外层水冷屏和内层水冷屏，内层水冷屏套设于外层水冷屏的内腔中，外层水冷屏的顶部一侧设有第一进水管，顶部另一侧与第一进水管相对位置设有第一出水管，内层水冷屏的顶部一侧设有第二进水管，顶部另一侧与第二进水管相对位置设有第二出水管。本实用新型水冷装置设置有多层水冷屏结构，且每层水冷屏均单独控制水流量，可根据单晶硅棒直径快速更适合尺寸的水冷装置；通过进水管和出水管上设置导流筒挂板，可根据单晶硅棒在拉制过程中需要水冷的位置，用流筒挂板将本水冷装置挂接在合适的位置；且使用本装置，无需增加水冷屏和石墨组件的成本，达到降低生产成本目的。 |
