一种掩膜版及套刻精度测量方法
基本信息
| 申请号 | CN201210230386.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102722082B | 公开（公告）日 | 2019-01-18 |
| 申请公布号 | CN102722082B | 申请公布日 | 2019-01-18 |
| 分类号 | G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/66 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李钢 | 申请（专利权）人 | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜版及套刻精度测量方法，采用相互独立的X标记和Y标记作为套刻标记，分列于图案区周围，从而缩小了外围区面积，即增大了图案区面积，进而增加了晶圆上优良芯片的数量，大大的提高了集成度。 |
